PCE-22是一款可加熱型的紫外臭氧清洗機，其加熱溫度可達150℃。此款設備可用於清洗各種基片，為製作高質量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠，改善表麵潤濕性，清洗SEM &TEM，紫外對聚合物改性等。

PCE-44是一款小型紫外臭氧清洗機，可用於清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表麵潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、幹燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發出兩種波長的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變為臭氧，254nm可以破壞化合物中的鍵

PCE-44-LD是一款小型紫外臭氧清洗機，可用於清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表麵潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、幹燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發出兩種波長的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變為臭氧，254nm可以破壞化合物中的鍵

小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控製技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次汙染。工作時外接一台真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔衝刷被清洗物的表麵，可短時間內徹底清洗掉有機汙染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品台可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據需要改變某些材料表麵的性能。

PDC-36G 等離子清洗機是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機物汙染。在射頻電源的作用下，去除速率大每分鍾10納米。在單晶材料外延薄膜生長以前進行預處理，對生長具有顯著的作用 。