VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材製備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,製備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可製作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶,旋轉樣品台可依次在同一樣品上塗覆三種材料。因此,適用於實驗室各種複合膜樣品的製備,以及非導體材料實驗電極的製作。
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備,適用於實驗室各種複合膜樣品的製備,以及非導體材料實驗電極的製作。
VTC-1RF是一款小型台式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用於製作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對於新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價並且高效的實驗幫手。 VTC-1RF 1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀
VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀係統,係統中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控製器等。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。 VTC-2RF 2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀