小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控製技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次汙染。工作時外接一台真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔衝刷被清洗物的表麵，可短時間內徹底清洗掉有機汙染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品台可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據需要改變某些材料表麵的性能。

PDC-36G 等離子清洗機是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機物汙染。在射頻電源的作用下，去除速率大每分鍾10納米。在單晶材料外延薄膜生長以前進行預處理，對生長具有顯著的作用 。

PCE-80是一款較大型的等離子清洗機，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續可調節。此款設備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和汙染物，同時也可改變物體表麵的性質（如親水和疏水性等）。對於基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。

PCE-500W是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機，等離子腔體為 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體，采用的射頻電源頻率為13.56MH，功率0 -500W連續可調節。此款設備功率高，可用於等離子刻蝕、等離子灰化、表麵改性以及材料摻雜改性等應用，對於基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。

GSL-1100X-PJF 等離子表麵處理儀是一款緊湊的大氣離子表麵處理噴射係統，主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下，迅速活化和清理材料表麵。例如單晶片、光學元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質量的外延薄膜或者光學塗層，預先進行表麵處理可以得到顯著的效果。